橢圓偏振儀是一種用于探測薄膜厚度、光學常數以及材料微結構的光學測量設備。由于并不與樣品接觸，對樣品沒有破壞且不需要真空?？蓽y的材料包括：半導體、電介質、聚合物、有機物、金屬、多層膜物質?？梢詰糜诎雽w、通訊、數據存儲、光學鍍膜、平板顯示器、科研、生物、醫藥等領域。主要功能：測量樣品的偏振參量信息等，可用于在線監測，也可用于離線的樣品測試；可使用不同大小的光斑探測樣品。橢圓偏振儀的調整要點主要步驟：1、調整分光計；2、調共軸（注意：用校光片，先不放檢偏器調，可以用白紙防在望遠...

白光干涉儀是一款用于對各種精密器件及材料表面進行亞納米級測量的檢測儀器。它是以白光干涉技術為原理、結合精密Z向掃描模塊、3D建模算法等對器件表面進行非接觸式掃描并建立表面3D圖像，通過系統軟件對器件表面3D圖像進行數據處理與分析，并獲取反映器件表面質量的2D、3D參數，從而實現器件表面形貌3D測量的光學檢測儀器。儀器可廣泛應用于半導體制造及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學加工、微納材料及制造、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業及航空航天、科研院所等領域中。...

3D劃痕儀使用了超新的劃痕頭和高分辨率的3D形貌儀，能夠讓用戶進行標準的劃痕測試，并在測試前后自動進行亞納米級的3D成像。劃痕試驗用于評估涂層和固體表面的粘附性和耐刮擦性。測試在受控的力下對樣品表面進行劃擦，劃痕頭在遞增、恒定或臺階增力的載荷下沿著樣品表面移動。通過檢測摩擦力、位移和聲發射等信號以及利用3D成像技術來檢測涂層破損。3D劃痕儀采用大速比大輸出扭矩齒輪減速箱，以保證在不同測試負載下劃針移動速度恒定，使測試結果具有較高的精度。本儀器目前可以做的是兩種底材的試驗。一種...

掩模對準曝光機又名光刻機，用光來制作一個圖形工藝，將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時復制到硅片上的過程。半導體制造過程中復雜也是難的步驟就是光刻，光刻機也因此成為重要的半導體制造設備，研發的技術門檻和資金門檻非常高，是復雜的機器之一。掩模對準曝光機一般根據操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動1、手動：指的是對準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了；2、半自動：指的是對準可以通過電動軸根據CCD...

隨著時代的進步，集成電路科技的進步與發展，對光刻工藝的精度提出了更高的要求。傳統的光刻工藝難以滿足如此的精度要求。接觸式光刻機性能的提高勢在必行。提高接觸式光刻機性能的關鍵技術：接觸式光刻機將圖形從掩模上復制到硅片上的若干參數決定了其主要性能。目前行業內被普遍接受的光刻機三大性能參數是光刻分辨率、套刻精度和產率。近年來，提高光刻機性能的新技術不斷涌現，光刻分辨率和套刻精度的提高推動光刻技術步入更小的節點，產率的提高為集成電路制造廠商帶來更高的經濟利益。下面主要討論提高光刻機性...