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    分享!光刻機的技術應用領域和典型過程

    更新時間:2023-01-10  |  點擊率:919
      現在光刻機與我們的生活息息相關,我們用的手機,電腦等各種各樣的電子產品,里面的芯片制作離不開光刻機。如今的世界是一個信息社會,各種各樣的信息流在世界流動。而光刻機的技術是保證制造承載信息的載體。在社會上擁有不可替代的作用。
     
      光刻機的技術應用領域:
      平版印刷術用于在用戶不希望影響其整個樣品的工藝步驟(主要是沉積或蝕刻)之前對樣品進行構圖。在蝕刻之前,使用光刻技術來形成抗蝕劑保護層,該保護層僅將材料保留在存在抗蝕劑的位置(負圖案)。在使用沉積光刻進行剝離之前,在沉積之后剝離抗蝕劑,僅留下沒有抗蝕劑的材料(正圖案)。
     

     

      典型過程:
      1、從干凈的基材和掩模版開始。如果掩?;蚧迳嫌蓄w粒,則可能導致抗蝕劑覆蓋率不均勻,從而導致許多器件出現錯誤;
      2、脫水烘烤樣品。這樣可以輕除表面上的水分,并改善與表面的附著力。通常,當表面仍然有水分時,抗蝕劑會在烘烤過程中起泡;
      3、旋轉抗蝕劑(通常在助粘劑之后)。這需要均勻地涂覆表面,否則曝光將不一致;
      4、輕輕烘烤抗蝕劑,這會將抗蝕劑中的溶劑輕除掉。過多的軟烘烤會降低抗蝕劑的靈敏度;
      5、暴露抗蝕劑(請參閱前面的部分);
      6、在某些抗蝕劑中,需要后曝光烘烤(PEB)。這將使酸在抗蝕劑中分布,從而破壞鍵。這樣可以使抗蝕劑的側壁輪廓更直;
      7、顯影抗蝕劑。顯影劑的類型取決于抗蝕劑和基底。與手動方法相比,自動顯影系統將具有更好的重現性;
      8、有些抗蝕劑需要硬烤,而另一些則不需要。確保您遵循所使用抗蝕劑的推薦做法。
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